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當(dāng)前位置:首頁產(chǎn)品中心同位素分析實(shí)驗(yàn)耗材及設(shè)備全自動(dòng)器皿清洗裝置ZH-SQ型SQ型器皿清洗裝置微波罐溶樣罐燒杯

SQ型器皿清洗裝置微波罐溶樣罐燒杯

產(chǎn)品簡(jiǎn)介

SQ型器皿清洗裝置微波罐溶樣罐燒杯適配我廠PFA溶樣罐(7、15、30、60ml)、鋼套消解罐內(nèi)襯(10ml等)、各廠家微波消解儀內(nèi)罐(如美國CEM、邁爾斯通、、屹堯、新儀、海能、新拓、萊伯泰科等廠家)、各類消解管、離心管、試管、燒杯、坩堝、試劑瓶等實(shí)驗(yàn)室常用器皿以及石英罐。甚至用于ICP的霧化室和火炬管等的痕量清洗。

產(chǎn)品型號(hào):ZH-SQ型
更新時(shí)間:2024-04-15
廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家
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                                           SQ型器皿清洗裝置微波罐溶樣罐燒杯

 SQ型器皿清洗裝置微波罐溶樣罐燒杯適配我廠PFA溶樣罐(7、15、30、60ml)、鋼套消解罐內(nèi)襯(10ml等)、各廠家微波消解儀內(nèi)罐(如美國CEM、邁爾斯通、、屹堯、新儀、海能、新拓、萊伯泰科等廠家)、各類消解管、離心管、試管、燒杯、坩堝、試劑瓶等實(shí)驗(yàn)室常用器皿以及石英罐。甚至用于ICP的霧化室和火炬管等的痕量清洗。

SQ型酸逆流器皿清洗裝置

一、 基本信息

    1、名稱:酸逆流器皿清洗裝置,型號(hào):SQ-210型  SQ-330型   
    2、清洗對(duì)象:適配我廠PFA溶樣罐(7、15、30、60ml)、鋼套消解罐內(nèi)襯(10ml等)、各廠家微波消解儀內(nèi)罐(如美國CEM、邁爾斯通、、屹堯、新儀、海能、新拓、萊伯泰科等廠家)、各類消解管、離心管、試管、燒杯、坩堝、試劑瓶等實(shí)驗(yàn)室常用器皿以及石英罐。甚至用于ICP的霧化室和火炬管等的痕量清洗。
    3、主要材質(zhì)

  (1)腔體為高純所有與器皿接觸的部分均為高純實(shí)驗(yàn)級(jí)PTFE材質(zhì)。

  (2)加熱系統(tǒng)可按照客戶要求做成節(jié)能環(huán)保型的硅膠加熱片,功率為350W;或者是我公司的特氟龍加熱電熱板,功率為2000W。

二、工作原理

    利用亞沸的HF 、HCL 、HNO3、高純水、堿類等等實(shí)驗(yàn)室常用酸、堿等常用溶劑的熱蒸汽來清洗反應(yīng)管、試管、消解管、燒杯、坩堝、容量瓶等實(shí)驗(yàn)室常用器皿。整個(gè)清洗過程是通過加熱板加熱產(chǎn)生的高純酸蒸氣對(duì)器皿的反復(fù)對(duì)流和冷凝淋洗作用下完成的,清洗器采用空氣冷卻而無需額外冷卻水,可以實(shí)現(xiàn)經(jīng)濟(jì)安全的過夜工作與常規(guī)的清洗或酸泡方法相比,蒸汽清洗法的清洗效果更好、更加潔凈無污染。

三、儀器性能及特點(diǎn)

    1、專業(yè)設(shè)計(jì),結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單,操作方便,操作人員無需培訓(xùn);

    2、適用痕量分析器皿清洗,PFA及PTFE溶樣罐、微波消解罐內(nèi)罐、燒杯、消解管、試管等;

    3、一次性處理量多達(dá)26、52、104個(gè)樣品(根據(jù)器皿大小而定),也可以根據(jù)器皿高矮設(shè)計(jì)成多層,更加高效,快捷;

    4、清洗過程中酸用量少,且清洗后的酸可重復(fù)使用,多次循環(huán)清洗,節(jié)省成本;

    5、密閉條件下進(jìn)行酸蒸氣超凈清洗,防止實(shí)驗(yàn)室污染;

    6、只有100%超純的酸蒸汽接觸需要清洗的器皿表面,所有接觸部件均采用高純實(shí)驗(yàn)級(jí)Teflon材料,保證的清潔與低的本底值;

    7、表面污染物被清除后,干凈的器皿將不再接觸清洗過的溶劑——相比較酸缸浸泡,這是更為純凈的清洗。

四、特別說明:

    1、清洗器皿外徑在30mm 及以內(nèi), 桶總高度:260mm, 桶外徑210mm, 一層26孔 (可做3層,即一次性可清洗78個(gè)樣品);

    2、清洗器皿外徑在30mm 及以內(nèi), 桶總高度:280mm,  桶外徑330mm, 一層50孔(可做3層,即一次性可清洗150個(gè)樣品);

    3、以上所說的樣品數(shù)量是以我廠10ml消解罐內(nèi)襯或PFA 15ml溶樣罐為參考,若是其他細(xì)長(zhǎng)器皿,可根據(jù)實(shí)際長(zhǎng)度設(shè)計(jì)層數(shù)和批次處理量;也可以按照客戶需求進(jìn)行定向加工。

五、數(shù)據(jù)說明

    PPb級(jí)的清洗結(jié)果利用酸蒸清洗系統(tǒng)清洗后,結(jié)果證明,含PPm級(jí)金屬污染的容器可以降低為PPb級(jí)。

ZH-酸純化器利用熱輻射原理使酸氣冷凝制備高純酸試劑

  • 產(chǎn)品簡(jiǎn)介:

酸純化器又稱酸純化系統(tǒng),高純酸提純器,酸試劑提純器,高純酸蒸餾純化器等,實(shí)驗(yàn)室工作中常常由于酸的純度較差,造成分析結(jié)果的偏差與錯(cuò)誤。市售的超純酸往往由于價(jià)格較貴,很難滿足日常分析中對(duì)酸的大量需求。因此,提純優(yōu)化酸的質(zhì)量,是為經(jīng)濟(jì)可行的途徑,我廠的酸純化器可用于實(shí)驗(yàn)室如HNO3、HCl、HF、堿溶液和有機(jī)溶劑的純化,純化后的酸和Merck的一樣好,實(shí)驗(yàn)后期可配套我單位Teflon特氟龍系列試劑瓶收取高純酸。

二、工作原理:

酸純化器是利用熱輻射原理,保持液體溫度低于沸點(diǎn)溫度蒸發(fā),再將其酸蒸氣冷凝從而制備高純水和高純?cè)噭瑥V泛應(yīng)用于樣品處理及分析實(shí)驗(yàn)中。

三、 產(chǎn)品特點(diǎn):

1、可以滿足ICP、ICP-MS低的檢測(cè)限需要及苛刻的分析應(yīng)用中提供實(shí)驗(yàn)室級(jí)超純酸,所用容器均采用Teflon耐腐蝕無吸附塑料,可處理如HNO3、HCl、HF等實(shí)驗(yàn)室的常用酸。

2、實(shí)驗(yàn)證明將金屬雜質(zhì)含量約10ppb的酸經(jīng)過一次蒸餾后,金屬雜質(zhì)含量可以降低到0.01ppb左右。若對(duì)酸要求更高,可增加提純次數(shù)。

四、相關(guān)參數(shù):

型號(hào)

CH-I 500ml

CH-II   1000ml

CH-Ⅲ  2000ml

名稱

酸純化器

酸純化器

酸純化器

產(chǎn)酸率

30ml/h

50ml/h

70ml/h

溫控方式

PID溫控?cái)?shù)顯

PID溫控?cái)?shù)顯

PID溫控?cái)?shù)顯

控溫精度

±1℃

±1℃

±1℃

材質(zhì)

FEP、PTFE、硅膠

電壓

220V/50Hz

功率(W)

350

優(yōu)勢(shì)

1.密閉環(huán)境下提純酸,不受環(huán)境污染,確保酸純度

2.純FEP、PTFE材質(zhì)制造,空白值低無腐蝕

3.技術(shù)先進(jìn),結(jié)構(gòu)合理,操作簡(jiǎn)單,一鍵式操作,蒸干自我保護(hù)

4.提純過程中,少量酸氣逸出

5.節(jié)約成本,方便實(shí)驗(yàn):較短時(shí)間內(nèi)純化低成本的酸試劑以達(dá)到痕量分析要求

五、使用注意事項(xiàng):
1、所有配件(控制器、電源線、加熱片等除外)放入按實(shí)驗(yàn)要求一定濃度的酸液中浸泡,去除雜質(zhì)。

2、加酸前必須做好個(gè)人防護(hù)如:防濺眼鏡、防酸手套等(蒸水除外)。

【電子級(jí)酸】

適用于半導(dǎo)體生產(chǎn)過程中所用產(chǎn)品的清洗和蝕刻以及痕量金屬元素殘留分析,根據(jù)質(zhì)控的金屬元素含量的數(shù)量和含量,劃分為4個(gè)級(jí)別:MOS級(jí),VLSI級(jí),ULSI級(jí),SLSI級(jí)

MOS級(jí)(EL級(jí)):控制十多個(gè)金屬元素,單項(xiàng)金屬元素雜質(zhì)控制在100PPb左右

VLSI級(jí):控制三十多個(gè)金屬元素,單項(xiàng)金屬元素雜質(zhì)控制在10~100PPb

ULSI級(jí):控制三十多個(gè)金屬元素,單項(xiàng)金屬元素雜質(zhì)控制在10PPb以下

SLSI級(jí):控制三十多個(gè)金屬元素,單項(xiàng)金屬元素雜質(zhì)控制在1PPB以下

所謂的電子級(jí)酸,其實(shí)就是ppb或者ppt級(jí)的高純酸。

實(shí)驗(yàn)數(shù)據(jù)(僅供參考):儀器:CH-I 酸純化器;試劑:優(yōu)級(jí)純的HF
蒸餾后,經(jīng)中國地質(zhì)大學(xué)地質(zhì)過程與礦產(chǎn)資源國家重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室ICP-MS檢測(cè)出HF中雜質(zhì)的含量

元素

測(cè)量濃度(ng/g=ppb)

元素

測(cè)量濃度(ng/g=ppb)

Be

<0.01

Ba

<0.01

Mg

<0.02

La

<0.01

Sc

<0.01

Ce

<0.01

V

<0.01

Pr

<0.01

Cr

<0.03

Nd

<0.01

Mn

<0.01

Eu

<0.01

Co

<0.01

Gd

<0.01

Ni

<0.01

Tb

<0.01

Zn

<0.02

Er

<0.01

Ga

<0.01

Tm

<0.01

Rb

<0.01

Yb

<0.01

Sr

<0.02

Lu

<0.01

Zr

<0.01

Hf

<0.01

Cd

<0.01

Pb

<0.01

Sn

<0.01

Th

<0.01

Cs

<0.01

U

<0.01

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